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本发明涉及一种纳米绒面多晶硅电池叠层减反射膜及其制备方法、以及应用。纳米绒面多晶硅电池叠层减反射膜的制备方法包括如下步骤：在无氧气氛下，加热硅基衬底，直至硅基衬底的温度升至550℃～650℃；然后通入氧气，对硅基衬底的纳米绒面进行热氧化处理...该专利属于张家港协鑫集成科技有限公司;协鑫集成科技股份有限公司;协鑫集成科技（苏州）有限公司;苏州协鑫集成科技工业应用研究院有限公司;徐州鑫宇光伏科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过张家港协鑫集成科技有限公司;协鑫集成科技股份有限公司;协鑫集成科技（苏州）有限公司;苏州协鑫集成科技工业应用研究院有限公司;徐州鑫宇光伏科技有限公司授权不得商用。