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一种目标图形的修正方法，包括：提供目标图形，将目标图形的轮廓分割为多个边缘；对目标图形进行光学邻近修正获取掩模版图形；对掩模板图形进行光学模拟，获得模拟曝光图形，检测模拟曝光图形上是否存在弱点；当存在弱点时，基于所述弱点在目标图形中确定修正...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。