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本发明公开了替格瑞洛杂质，即替格瑞洛杂质7、杂质8；此外，还公开了其制备方法和用途。本发明提供的替格瑞洛相关杂质及其制备方法为替格瑞洛中间体、原料药及其组合物的质量研究夯实了基础。...
该专利属于重庆植恩药业有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆植恩药业有限公司授权不得商用。

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