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本发明实施例提供一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置,涉及蒸镀技术领域,能够解决在掩模版上支撑条位置处与待蒸镀基板之间存在较大的间隙,间隙位置处在蒸镀膜层时易于侵入沉积蒸镀材料,从而使得掩模蒸镀的膜层图案与掩模图案差异较大的问题。包括:掩模版...该专利属于合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。