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本实用新型公开一种磁控溅射装置，包括靶材位置、基板、电场部件及磁体。基板与靶材平行且相对所需间距设置，电场部件用于产生电场方向垂直于靶材的静电场；磁体悬空且平行于靶材设置在靶材与基板之间，磁体具有将靶材包围在其内的区域，区域中具有磁场方向平...
该专利属于昆山国显光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山国显光电有限公司授权不得商用。

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