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本发明涉及一种用于三维散射样品(206)的全场干涉显微镜成像的系统(20)。所述系统包括：‑包括参考臂的干涉装置(200)，在该参考臂上布置有反射表面(205)，当样品被放置在目标臂上时，干涉装置适于在成像场的每个点产生通过在对应于成像场的...
该专利属于LL技术管理公司所有，仅供学习研究参考，未经过LL技术管理公司授权不得商用。

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