下载选择性发射极电池结构及其制备方法的技术资料

文档序号:17365145

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本发明公开了一种选择性发射极电池结构的制备方法,括以下步骤:S1、取制绒后的硅片,在APCVD沉积磷源或硼源,形成轻掺区;S2、激光开膜,轻掺区形成呈行列分隔的方块阵结构;S3、将硅片返回APCVD沉积磷源或硼源,进行高温推进,形成重掺区。...
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