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所提供的两步克隆限制修饰系统的方法包括在宿主中引入修饰基因或甲基化酶基因并表达，为保护宿主细胞使引入的限制基因或核酸内切酶基因表达能力低于被引入的修饰基因。同时提供了与生产限制酶有关的方法及ＢａｍＩ和ＤｄｅＩ限制基因的克隆。...
该专利属于新英格兰生物实验室公司所有，仅供学习研究参考，未经过新英格兰生物实验室公司授权不得商用。

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