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本发明涉及显示技术领域，公开一种阵列基板的制备方法及阵列基板、显示装置。阵列基板的制备方法包括：在衬底基板的一侧形成钝化层的膜层；在所述钝化层的膜层上形成金属反射层的图形；通过构图工艺在所述钝化层的膜层上形成钝化层过孔，并在所述金属反射层中...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司授权不得商用。