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本发明提供了一种镁合金蚀刻板的蚀刻工艺，包括晒版、开版、酸洗、蚀刻、烘干等几个步骤，所述蚀刻制作凸版或凹版时，所述蚀刻的工艺参数包括：转速、蚀刻液温度、蚀刻时间、补酸。针对专用的蚀刻机，按一定比例配制蚀刻液，并通过实时控温，及时补酸实现镁合...
该专利属于上海利正卫星应用技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海利正卫星应用技术有限公司授权不得商用。

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