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本发明一种像素界定层及其制备方法和应用,包括如下步骤:S1、获取基板,所述基板具有图形化像素电极;S2、于所述基板上沉积一层负性光阻薄膜;S3、获取光照掩板,所述光照掩板与所述负性光阻薄膜之间设有间隔,所述间隔为50‑200μm;S4、利用...该专利属于广东聚华印刷显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过广东聚华印刷显示技术有限公司授权不得商用。
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本发明一种像素界定层及其制备方法和应用,包括如下步骤:S1、获取基板,所述基板具有图形化像素电极;S2、于所述基板上沉积一层负性光阻薄膜;S3、获取光照掩板,所述光照掩板与所述负性光阻薄膜之间设有间隔,所述间隔为50‑200μm;S4、利用...