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本实用新型涉及显示设备技术领域，公开了一种基板清洗装置，该基板清洗装置包括：基台，基台设有用于承载基板的承载面；可相对于基台沿与承载面平行的方向移动的清洗头，清洗头具有至少一个正压腔室和至少一个负压腔室，正压腔室的开口朝向承载面以向放置于承...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司授权不得商用。