一种基板清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及显示设备技术领域，公开了一种基板清洗装置，该基板清洗装置包括：基台，基台设有用于承载基板的承载面；可相对于基台沿与承载面平行的方向移动的清洗头，清洗头具有至少一个正压腔室和至少一个负压腔室，正压腔室的开口朝向承载面以向放置于承载面的基板喷射清洁气体；负压腔室的开口朝向承载面以吸取进行清洁后的气体；连接正压腔室和负压腔室的管路组件，管路组件上设有风机和过滤组件。上述基板清洗装置，能够有效的将基板上由于测量及检测造成的异物去除，使得基板表面的洁净度得到提高，从而有效地减少产品的次品率，提高生产效率。

A substrate cleaning device

The utility model relates to the technical field of display equipment, and discloses a substrate cleaning apparatus, the substrate cleaning device comprises a base station, base station is provided with a bearing substrate bearing surface; the movable relative to the base station along the direction parallel to the surface of the bearing and the cleaning head, a cleaning head has at least one positive pressure chamber and at least one of the negative pressure chamber opening, positive pressure chamber toward the bearing surface to the bearing surface of the substrate is placed on the clean gas injection; opening of the negative pressure chamber toward the bearing surface to absorb the gas after cleaning the connecting pipe assembly; positive pressure chamber and the negative pressure chamber, a fan and a filter assembly is provided with a pipe assembly. The substrate cleaning device can effectively remove the foreign matter caused by measurement and detection on the substrate, so that the cleanliness of the surface of the substrate is improved, thereby effectively reducing the defective product rate and improving the production efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种基板清洗装置
本技术涉及显示设备
，特别涉及一种基板清洗装置。
技术介绍
在液晶显示装置中，为了得到均匀的亮度和高的对比度,而必须使液晶板内的液晶分子按一定方向排列。在这个液晶显示装置的液晶盒制造技术中，PI(Polyimide，聚酰亚胺)膜是由取向膜印刷机通过转印版将取向膜印刷在TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)和彩色滤光片基板上，然后固化成膜的。假如在PI膜固化成膜、检测及测量完成后，没有及时的将积累的灰尘或异物清洁，后续生产出的产品将会在盒内产生异物，并且造成损失。因此，每次清洁时人员通过蘸有乙醇的无尘布，针对有异物的位置进行清洁，并通过肉眼观测来判断是否擦干净。总之，该检测以及清洁方式存在诸多不足之处：1、清洁设备时，内部空间比较小，人员操作比较麻烦并且清洁效果不佳；2.基板进入设备进行检测因为时间比较长，避免不了产生异物，现有设备无法解决并且人员难以发现；3.内部设备两侧没有静电消除器，检测过程中会产生静电；4.每次进入设备的基板一定会产生异物(在现场无法解决)，只有到检测端进行检测时才会发现并做出调查，在此期间生产的大量的产品极有可能不良本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洗装置，其特征在于，包括：基台，所述基台设有用于承载基板的承载面；可相对于所述基台沿与所述承载面平行的方向移动的清洗头，所述清洗头具有至少一个正压腔室和至少一个负压腔室，所述正压腔室的开口朝向所述承载面以向放置于所述承载面的基板喷射清洁气体；所述负压腔室的开口朝向所述承载面以吸取进行清洁后的气体；连接所述正压腔室和负压腔室的管路组件，所述管路组件上设有风机和过滤组件。

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗装置，其特征在于，包括：基台，所述基台设有用于承载基板的承载面；可相对于所述基台沿与所述承载面平行的方向移动的清洗头，所述清洗头具有至少一个正压腔室和至少一个负压腔室，所述正压腔室的开口朝向所述承载面以向放置于所述承载面的基板喷射清洁气体；所述负压腔室的开口朝向所述承载面以吸取进行清洁后的气体；连接所述正压腔室和负压腔室的管路组件，所述管路组件上设有风机和过滤组件。2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述正压腔室的开口处设置有超声波发生器。3.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述过滤组件包括设置于所述负压腔室与所述风机的进风口之间的预过滤器和设置于所述风机的出风口与所述正压腔室之间的高效过滤器。4.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，沿所述清洗头的行进方向，每一个所述正压腔室的前后均设置有一个负压腔室。5.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述清洗头包括一个清洗头本体，所述清洗头本体内设有沿与所述清洗头行进方向垂直、且与所述承载面平行的方向排...

【专利技术属性】
技术研发人员：李克佳，吕萌，康慧，潘亚曦，郭东升，杨宗胜，辛瞳，李宾，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：新型
国别省市：北京,11