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一种半导体硅磨片清洗剂及其制备方法，所述清洗剂，包括表面活性剂、有机碱、络合剂、助溶剂和水，所述清洗剂的组份和含量的体积百分比如下：表面活性剂1‑15%；有机碱3‑5%；络合剂2‑10%；助溶剂3‑10%；水60‑80%；按上述组份和含量制...
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