温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的阵列基板制备工艺繁琐，多道制程均会降低显示面板的光透过率的问题。本发明的阵列基板的制备方法中，以二硫化钼作为半导体材料形成有源层，同时以二硫化钼作为第一电极层的材...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。