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本发明公开了一种催化石墨化的方法以及利用该该方法制备高导热石墨烯膜，该石墨烯膜由超大片均匀氧化石墨烯经过溶液成膜、化学还原、高温压力还原步骤得到。其石墨烯片层结构完美，片层晶区极大(100um左右)并极少含有缺陷，层间结晶厚度大，结构密实，...
该专利属于杭州高烯科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州高烯科技有限公司授权不得商用。

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