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低杂散场磁性存储器制造技术
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下载低杂散场磁性存储器的技术资料
文档序号:17145087
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实施例包括一种装置,该装置包括:衬底;在衬底上的磁性隧道结(MTJ),该磁性隧道结包括固定层、自由层以及固定层和自由层之间的电介质层;以及第一合成反铁磁(SAF)层、第二SAF层以及在第一SAF层和第二SAF层之间的包括非磁性金属的中间层;...
该专利属于英特尔公司所有,仅供学习研究参考,未经过英特尔公司授权不得商用。
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