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披露了用于使用经单取代的TSA前体形成含硅和氧的膜的ALD方法。这些经单取代的TSA前体具有式：(SiH3)2N‑SiH2‑X，其中X是卤素原子或氨基。...
该专利属于乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司授权不得商用。

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