温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明属于半导体行业晶片的高压清洗、显影、蚀刻等湿法处理领域，具体地说是一种防止液体迸溅起雾的挡水机构，安装在底层收集杯上，电机输出轴上连接有位于挡水机构内的承片台，晶片吸附在所述承片台上、随承片台由所述电机驱动旋转；挡水机构包括外层挡水罩...
该专利属于沈阳芯源微电子设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳芯源微电子设备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。