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本发明公开了一种具备自清洁性能的薄膜及其制备方法。该方法选用高分子聚合物为基体,用与高分子聚合物相溶的溶剂溶解高分子聚合物,以纳米填料为疏水基团引入源,通过超声辅助物理共混法与溶剂形成分散液,再加入助溶剂与添加剂,最后采用低表面能试剂修饰形...该专利属于华南理工大学;广州洁圣膜技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过华南理工大学;广州洁圣膜技术有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种具备自清洁性能的薄膜及其制备方法。该方法选用高分子聚合物为基体,用与高分子聚合物相溶的溶剂溶解高分子聚合物,以纳米填料为疏水基团引入源,通过超声辅助物理共混法与溶剂形成分散液,再加入助溶剂与添加剂,最后采用低表面能试剂修饰形...