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本发明的目的在于提供一种具有高的平坦化精度，且在比较长的期间内研磨速率不易降低的研磨垫。本发明的研磨垫包括基材膜；以及研磨层，层叠于所述基材膜的表面侧且含有研磨粒及其粘合剂，所述研磨层具有沿着其研磨方向被划分而成的平均高度不同的多种区域，当...
该专利属于阪东化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过阪东化学株式会社授权不得商用。

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