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本发明涉及基板处理系统以及方法，其中基板处理方法包括：基板配置步骤，在腔室内部配置基板；掩膜部件配置步骤，在腔室内部中在基板上面配置掩膜部件；封装层形成步骤，调节相对于基板的掩膜部件的配置高度来形成封装层，以覆盖形成在基板的元件。调节相对于...
该专利属于圆益IPS股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过圆益IPS股份有限公司授权不得商用。

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