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本发明公开了一种提高电镀均匀性分析效率的测量装置及方法，所述测量装置是平板，所述平板的尺寸与待测板的尺寸相同，在所述平板上沿平板长边方向且在以下长度位置处设置通孔：1/64、1/32、1/16、1/8、1/4、1/2、3/4、7/8、15/...
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