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用于纳米银导电膜的蚀刻液及图案化纳米银导电膜的制备方法技术
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文档序号:16997527
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本发明提供了一种用于纳米银导电膜的蚀刻液,包括:蚀刻剂1‑30份、溶剂70‑90份、添加剂0‑10份,所述蚀刻剂为常温下对银不具备直接氧化性且能与银离子络合的蚀刻剂;因此蚀刻液只是将蚀刻区的导电网络切断,并非大面积蚀刻掉,降低蚀刻痕的同时使...
该专利属于苏州诺菲纳米科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州诺菲纳米科技有限公司授权不得商用。
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