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本发明公开一种硅片清洗工艺，包括以下步骤：a、将硅片放入装有柠檬酸溶液的超声波清洗机中清洗；b、将步骤a清洗后的硅片放入装有去离子水的超声波清洗机中清洗；c、将步骤b清洗后的硅片放入烘箱进行干燥。所述一种硅片清洗工艺能够有效的去除附着在硅片...
该专利属于崔敏娟所有，仅供学习研究参考，未经过崔敏娟授权不得商用。

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