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用于半导体器件的具有高高宽比的穿过电介质的导电路径制造技术
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下载用于半导体器件的具有高高宽比的穿过电介质的导电路径的技术资料
文档序号:16976790
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描述了用于半导体器件的具有高高宽比的穿过电介质的导电路径。在一个示例中,在半导体基底上形成多个导电连接焊盘,以连接到形成在所述基底上的电路。在连接焊盘的子集中的每个连接焊盘上形成柱,该柱由导电材料形成。在半导体基底之上,包括在连接焊盘和柱之...
该专利属于英特尔IP公司所有,仅供学习研究参考,未经过英特尔IP公司授权不得商用。
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