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本发明公开一种柔性多层透明导电氧化物薄膜的制备方法，包括以下步骤：S1、清洗柔性基底；S2、通过磁控溅射在柔性基底表面沉积下SiO2膜层，下SiO2膜层厚度为15～60nm；S3、采用电子束蒸发技术在下SiO2膜层表面蒸发Ag膜层，Ag膜层...
该专利属于蚌埠玻璃工业设计研究院所有，仅供学习研究参考，未经过蚌埠玻璃工业设计研究院授权不得商用。

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