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本实用新型公开了一种简易的PVD真空镀膜装置，包括有真空腔（1），真空腔（1）连接有真空泵（10），真空腔（1）外设有薄膜厚度监测仪（6）和回转接头（7），所述薄膜厚度监测仪（6）的测试探头（12）穿过真空腔（1）的腔壁（2）后伸入真空腔（...
该专利属于贵州理工学院所有，仅供学习研究参考，未经过贵州理工学院授权不得商用。

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