温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种腔室温度控制方法、装置及半导体工艺设备，其中，腔室包括对腔室进行密封的上盖和对上盖进行温度控制的冷却系统，该方法包括：判断腔室的当前工艺类型；控制冷却系统，以将上盖的温度保持在对应当前工艺类型的设定温度范围内。本发明腔室温度...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。