温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及基板处理装置以及利用该基板处理装置的薄膜沉积装置。本实施例的基板处理装置包括：腔室，具有密封的工艺区域；基板支撑架，位于所述腔室下部，使晶片安装在上面，并且在内部使防止沉积气体通过气体通道向侧面周围排放；花洒头，位于所述腔室上部，...
该专利属于圆益IPS股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过圆益IPS股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。