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本发明提供一种蚀刻设备，包括蚀刻腔室，以及收容所述蚀刻腔室的可旋转的承载平台、与承载平台的表面平行的上电极板、下电极板及两个遮挡板；下电极板设于所述承载平台上，上电极板设于所述蚀刻腔室顶部，两个遮挡板设于所述上电极板与下电极板之间且所述遮挡...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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