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本发明提供一种激光配准系统,包括:支架;磁探头,设于所述支架上;至少两个激光发射装置,设于所述支架上;其中,各所述激光发射装置发出的激光脉冲汇聚于一交点且所述交点位于所述磁探头的正下方。本发明提供的激光配准系统包括至少两个激光发射装置,所述...该专利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院上海微系统与信息技术研究所授权不得商用。
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本发明提供一种激光配准系统,包括:支架;磁探头,设于所述支架上;至少两个激光发射装置,设于所述支架上;其中,各所述激光发射装置发出的激光脉冲汇聚于一交点且所述交点位于所述磁探头的正下方。本发明提供的激光配准系统包括至少两个激光发射装置,所述...