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本发明提供一种半导体器件的制作方法，包括：在半导体基底上形成栅氧化层；在所述栅氧化层上形成栅材料层；采用干法刻蚀工艺刻蚀所述栅材料层形成栅极，并在形成所述栅极的过程中对栅材料层进行去离子处理。根据本发明，在采用干法刻蚀工艺刻蚀栅材料层形成栅...该专利属于北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司授权不得商用。