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本实用新型公开了一种用于半导体加工的等离子清洗装置，包括等离子发生头、温度传感器、等离子发射器和电动机，所述等离子发射器通过连接管与等离子发生头相连接，所述气缸与等离子发生头相连接，且等离子发生头的顶侧活动连接有导杆，所述温度传感器镶嵌于机...
该专利属于厦门芯光润泽科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过厦门芯光润泽科技有限公司授权不得商用。

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