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本实用新型公开了一种光刻机及其掩膜机台，该掩膜机台包括承载基座、位于所述承载基座上的若干支柱以及第一气道，所述第一气道至少有一段设置于所述支柱内，并贯穿所述支柱的支撑面。利用本实用新型所提供的掩膜机台能够检测掩膜版上与支柱接触的位置是否存在...该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。