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本发明涉及一种高电阻率CN薄膜的制备方法，包括以下步骤：选用0.1‑1.5mm的衬底材料；对衬底材料进行超声波清洗；在样品基架上放置C靶材；把清洗干净的衬底材料放置于样品基架上；使用氩离子轰击靶材，达到清洗和活化靶材的作用；把清洗后的衬底材...
该专利属于蚌埠玻璃工业设计研究院所有，仅供学习研究参考，未经过蚌埠玻璃工业设计研究院授权不得商用。

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