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本发明涉及使用电感耦合高密度等离子体进行介电膜的致密化。一种用于致密化衬底上的介电膜的方法包括：将包括介电膜的衬底布置在衬底处理室中的衬底支撑件上；向所述衬底处理室供应包括氦和氧的气体混合物；将所述衬底处理室中的压强控制为大于或等于预定压强...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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