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凹部的填埋方法技术
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文档序号:16758532
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提供能够在微细的凹部不产生空隙、缝地填入氮化膜的凹部的填埋方法。重复进行成膜原料气体吸附工序和氮化工序从而在凹部内形成氮化膜而填埋凹部,所述成膜原料气体吸附工序:使表面形成有凹部的被处理基板吸附含有想要成膜的氮化膜的构成元素的成膜原料气体;...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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