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本发明提供了改进的二氧化硅蚀刻剂，由把作为表面活性剂的可溶性环状氟化磺酸盐添加到集成电路制作中所用的标准的氧化物蚀刻剂溶液中而获得的．...
该专利属于阿兰德公司所有，仅供学习研究参考，未经过阿兰德公司授权不得商用。

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