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本发明提供一种图案形成方法、通过上述图案形成方法而形成的抗蚀剂图案、包含上述图案形成方法的电子器件的制造方法，并且通过上述上层膜形成用组合物以高级别兼顾DOF、EL及液残留缺陷性能，所述图案形成方法具备：工序a，将感光化射线性或感放射线性树...
该专利属于富士胶片株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶片株式会社授权不得商用。

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