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本发明提供包含将改性萘甲醛树脂氰酸酯化而得到的氰酸酯化合物的光刻用下层膜形成用材料。...
该专利属于三菱瓦斯化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三菱瓦斯化学株式会社授权不得商用。

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