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辐射敏感组合物、非晶膜和抗蚀图案形成方法技术
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文档序号:16672318
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一种辐射敏感组合物,其含有抗蚀基材(A)、重氮萘醌光活性化合物(B)以及溶剂(C),该组合物中的前述溶剂(C)的含量为20~99质量%,前述溶剂(C)之外的成分的含量为1~80质量%,前述抗蚀基材(A)为下述式(1)所示的化合物。(式(1)...
该专利属于三菱瓦斯化学株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱瓦斯化学株式会社授权不得商用。
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