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本发明提供了一种低温多晶硅薄膜晶体管,其包括:基板;栅极,设置于基板上;栅极绝缘层,设置于基板和栅极上;多晶硅层,设置于栅极绝缘层上,多晶硅层上具有凹槽;掺杂多晶硅层,设置于多晶硅层上且具有完全暴露凹槽的通孔;蚀刻阻挡层,设置于栅极绝缘层和...该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。
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