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本发明涉及一种用于半导体器件中高介电常数介电材料钛酸锶钡（ＢａｘＳｒ↓［１－ｘ］ＴｉＯ↓［３］，ＢＳＴ）化学机械抛光（ＣＭＰ）的纳米抛光液。该ＣＭＰ纳米抛光液包含有纳米研磨料、螯合剂、ｐＨ调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂及溶剂等。该抛光液...该专利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海微系统与信息技术研究所授权不得商用。
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本发明涉及一种用于半导体器件中高介电常数介电材料钛酸锶钡（ＢａｘＳｒ↓［１－ｘ］ＴｉＯ↓［３］，ＢＳＴ）化学机械抛光（ＣＭＰ）的纳米抛光液。该ＣＭＰ纳米抛光液包含有纳米研磨料、螯合剂、ｐＨ调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂及溶剂等。该抛光液...