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一种可在衬底上全覆盖沉积的CVD设备，包括衬底支座，其特征是：所述衬底支座包括机架、支撑轴和驱动机构，多个支撑轴平行安装在机架上，至少一个支撑轴上设有沿长度布置的周向环槽，周向环槽的槽底形状与衬底的边部外形配合一致，衬底竖向立于周向环槽内，...
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