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一种清洗装置、清洗设备及清洗方法，该清洗装置包括清洁机构和至少一个清洗液量控制装置。该清洁机构包括清洁面，清洁面能够吸取清洗液以用于清洗；该至少一个清洗液量控制装置配置为能够接触清洁面并对清洁面施加接触压力，以控制清洁面在进行清洗工作之前所...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司授权不得商用。