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本发明公开了一种曝光光罩,其包括第一曝光区域、第二曝光区域和包围所述第一曝光区域和第二曝光区域的遮光区域,所述第二曝光区域邻近于所述第一曝光区域的边缘设置,所述第二曝光区域包括按照逐渐远离所述第一曝光区域的方向依次并行排列第1至第M个子曝光...该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种曝光光罩,其包括第一曝光区域、第二曝光区域和包围所述第一曝光区域和第二曝光区域的遮光区域,所述第二曝光区域邻近于所述第一曝光区域的边缘设置,所述第二曝光区域包括按照逐渐远离所述第一曝光区域的方向依次并行排列第1至第M个子曝光...