温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种低内应力高硬度的DLC/a‑CNx纳米多层膜的制备方法，所述方法按如下步骤进行：(1)将单晶硅片基体放入氢氟酸溶液中进行清洗，再分别用丙酮和无水乙醇清洗，使其表面清洁，粗糙度不高于Ra 0.1；(2)将石墨靶和前处理后的单晶硅片基体装入...
该专利属于浙江工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江工业大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。