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本实用新型公开了一种磁控溅射真空电子束蒸镀装置，该装置包括真空室和电源，真空室内设置有基片、等离子屏、第一靶、第二靶和电极，等离子屏中设置有磁控溅射装置，第一靶、第二靶和电极被等离子屏包围在其中；电源包括单极直接电压脉冲产生装置和双极脉冲产...
该专利属于天津市大阳光大新材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津市大阳光大新材料股份有限公司授权不得商用。

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