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本实用新型公开了一种液氮冷却磁控溅射真空电子束蒸镀装置，该装置包括冷却聚集室和沉积室，冷却聚集室和沉积室之间由带有通孔的隔板隔开；沉积室内设置有基片；冷却聚集室内设置有聚集区，聚集区的一侧设置有出口；聚集区内设置有磁控管和靶；冷却聚集室的外...
该专利属于天津市大阳光大新材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津市大阳光大新材料股份有限公司授权不得商用。

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